SEM是扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope)的缩写,是一种利用聚焦的高能电子束在样品表面进行扫描,通过检测电子与样品相互作用产生的各种信号来观察微观形貌和成分信息的精密量测设备。

在半导体、材料科学、生命科学、纳米技术等领域,SEM被广泛用于微观结构表征、尺寸测量、缺陷分析和成分分析。其核心工作原理是:电子枪发射电子束,经电磁透镜系统聚焦成极细的电子探针,在扫描线圈控制下对样品表面做光栅状扫描。电子束与样品相互作用后激发出二次电子、背散射电子、特征X射线等信号,由探测器收集并转变为电信号,最终在显示屏上形成放大的、高分辨率的表面形貌图像。
作为量测设备,SEM的主要量测能力包括:线宽测量(CD-SEM,即临界尺寸扫描电镜)、膜厚测量、颗粒尺寸与分布统计、表面粗糙度评估、断面结构尺寸测量等。其中,CD-SEM是半导体制造过程中用于在线监控光刻和刻蚀后关键尺寸的关键量测工具,其测量精度可达到纳米级甚至亚纳米级。
SEM通常配备能谱仪(EDS)或波谱仪(WDS),可对微区元素成分进行半定量或定量分析。此外,现代SEM还具备电子束光刻、原位力学测试、环境扫描(ESEM)等扩展功能。相比光学显微镜,SEM具有分辨率高(可达1nm以下)、景深大、放大倍数范围广(数十倍至数十万倍)等优势,是微观尺度量测与分析的核心设备之一。

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