扫描电子显微镜(SEM)是一种高分辨率表征技术,可通过二次电子成像直接观察样品表面形貌,从而测量颗粒尺寸。以下是常见的
方法 | 原理 | 适用场景 | 测量精度 | 优势 | 局限性 |
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图像分析法 | 通过获取高分辨率SEM图像,利用图像处理软件(如ImageJ、Zen等)对颗粒轮廓进行边缘检测和粒子计数 | 金属粉末、陶瓷颗粒、纳米材料等 | 通常为5-100 nm | 非破坏性、操作简单、成本较低 | 受限于图像分辨率和颗粒分布均匀性 |
电子背散射衍射(EBSD) | 基于电子束与样品晶体的相互作用,分析晶粒尺寸和取向分布 | 多晶材料、晶界研究 | 10-1000 nm | 可同时获取晶粒取向信息 | 需要样品导电处理且对非晶材料不适用 |
能谱分析(EDS) | 结合X射线能谱定量分析颗粒化学成分,适用于复合材料中不同相的尺寸测量 | 混合颗粒体系、元素分析需求 | 10-1000 nm | 同时获得元素组成和尺寸数据 | 测量时间较长,需注意元素信号重叠 |
数字图像处理技术 | 采用傅里叶变换、分形分析等算法对SEM图像进行统计分析 | 复杂颗粒形貌、统计分布研究 | 1-100 nm | 可处理非球形颗粒 | 对图像质量要求高,需专业软件支持 |
操作步骤通常包括:样品制备(导电处理、断口表面处理)、SEM参数优化(加速电压、工作距离、二次电子信号强度)、图像采集(建议5000-20000倍放大倍率)、图像处理(使用阈值分割、形态学处理等算法提取颗粒边界)、尺寸统计(计算平均粒径、分布曲线等)。
为提高测量准确性,需注意以下事项:
1. 样品导电性:非导电样品需喷镀金、铂等金属层,避免电荷积累影响成像清晰度
2. 表面平整度:颗粒需分布均匀且表面无显著凹凸,否则会影响边缘识别
3. 电子束轰击效应:高能电子束可能导致样品表面损伤或颗粒变形,建议采用低加速电压(如1-10 kV)
4. 二次电子信号的信噪比:适当调整探测器灵敏度和工作距离,确保颗粒轮廓清晰
5. 粒子计数的自动化:使用AI算法(如Deep Learning)可提升大批量颗粒的识别效率,但需验证模型准确性
补充说明:SEM测量的粒径通常反映颗粒的投影尺寸,对于非球形颗粒存在系统误差。若需精确三维尺寸,可结合聚焦离子束(FIB)切割或透射电子显微镜(TEM)分析。此外,动态光散射(DLS)和
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